Systemübersicht

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für Ihre Bedüfnisse

Speziell entwickelte Lasertechnologie für höchste Qualität auf allen Wafermaterialien.

Typ:
Wafer-Durchmesser:
11 Systeme gefunden
Marking
2"-200mm
IL 600

IL 600

  • Manuelles Handling
  • Waferhalterung für verschiedene Wafer
  • Geeignet für geringes Volumen
Marking
2"-200mm
IL 1000

IL 1000

  • Automatisches Handling
  • Eine Ladestation
  • Kleiner benötigter Stellplatz
Marking
2"-200mm
IL 2000

IL 2000

  • Automatisches Handling
  • Vier Ladestationen
  • Auch mit Sortierfunktion konfigurierbar
Marking
200mm
IL C2000

IL C2000

  • Automatisches Handling
  • Bis zu drei Ladestationen
  • ISO 3 Minienvironment
Marking
300mm
IL 3000

IL 3000

  • Hard Marking von unpolierten Wafern
  • Geeignet für manuelle Beladung
  • Vier Ladestationen
Marking
300mm
IL C3000

IL C3000

  • Soft Marking von polierten Wafern
  • Geeignet für AGV/OHT Beladung via E84
  • ISO 3 Minienvironment
Marking
300mm
IL D3000

IL D3000

  • Hard Marking von unpolierten Wafern
  • Geeignet für AGV/OHT Beladung via E84
  • Fan Filter Units optional
Sorting
2"-200mm
IL 2600

IL 2600

  • Sortierung nach ID, Gewicht & Dicke
  • Hoher Durchsatz bis zu 250 Wafer pro Stunde
  • Geinge Abmaße
Sorting
300mm
IL C3200

IL C3200

  • Sortierung nach ID oder Inspektionsergebnis
  • Geeignet für AGV/OHT Beladung
  • ISO 3 Minienvironment erhältlich
Sorting
300mm
IL C3600

IL C3600

  • Sortierung nach ID oder Inspektionsergebnis
  • Geeignet für AGV/OHT Beladung
  • ISO 3 Minienvironment erhältlich
Sorting
300mm
IL C3800

IL C3800

  • Sortierung nach ID oder Inspektionsergebnis
  • Geeignet für AGV/OHT Beladung
  • ISO 3 Minienvironment erhältlich
Beratung & Konfiguration

Beratung & Konfiguration

Von der ersten Anforderungsanalyse bis zur erfolgreichen Endabnahme Ihres Wafer Marking Systems begleitet Sie ein persönlicher Ansprechpartner – für eine Lösung, die exakt auf Ihre Fertigungsanforderungen zugeschnitten ist.

International Sales Team

InnoLas Wafer Marking und Sorting Systeme bieten höchste Präzision, Reinraumtauglichkeit und vollständige Rückverfolgbarkeit für effiziente, stabile Halbleiterprozesse.

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